生产工艺流程
　　不锈钢蚀刻标牌生产包含五个核心工序。基材处理阶段选用0.01-0.5mm厚度的304或316不锈钢板，通过研磨和电解抛光使表面粗糙度(Ra)≤0.2μm。图形转移采用负性光刻胶(如SU-8)或干膜，涂层厚度控制在10-50μm范围，紫外曝光能量设定为100-300mJ/cm²。蚀刻加工分为化学蚀刻(FeCl₃或HNO₃/HF混合液，温度40-60℃)和电解蚀刻(电压3-12V)两种方式，蚀刻深度公差控制在±5μm以内。后处理工序包括3-5%NaOH溶液去膜和20%HNO₃钝化处理，确保标牌耐腐蚀性。
　　工艺技术参数
　　感光油墨曝光环节使用5μm分辨率光掩模，365nm波长UV光源曝光量120-150mj/cm²。化学蚀刻速率约10-50μm/min，侧蚀比需控制在1:0.8以内。电解蚀刻精度可达±1μm，电流密度0.5-2A/cm²。最小线宽加工能力为0.05mm，深宽比常规1:1，特殊工艺可达3:1。表面粗糙度要求蚀刻后Ra≤0.8μm，无毛刺缺陷。
　　工艺对比分析
　　化学蚀刻成本低但精度较低(误差约12mm)，适合大面积图案;感光蚀刻精度高(误差≤0.5mm)但工序复杂;激光蚀刻无化学污染且精度达0.01mm线宽，但设备昂贵。电解蚀刻可控性强，需配合掩膜技术防止侧蚀。丝网印刷蚀刻生产效率高，适合简单图案;光化学蚀刻适合复杂精细图形。
　　质量控制标准
　　材料选择需根据应用环境确定：304/316不锈钢耐蚀性好，420马氏体不锈钢硬度高但易氢脆，2205双相钢需平衡两相蚀刻速率。加工过程需监控曝光宽容度(最大/最小曝光时间比)和深度曝光特性(光致抗蚀层透光率)。成品检验包括尺寸公差(±3μm)、蚀刻深度一致性(±0.005mm)和盐雾测试(≥1500小时)。
　　创新技术发展
　　LIGA-like工艺结合X光曝光和电铸，实现100μm厚度三维微结构。飞秒激光辅助蚀刻分辨率达2μm，热