干蚀刻大多是等离子蚀刻或化学蚀刻的一种。由于蚀刻效果不同，等离子体中离子的物理原子、活性自由基的化学反应以及器件(晶圆)的表面原子，或两者的结合，包括以下几点：

　　l物理蚀刻：溅射蚀刻、离子束蚀刻

　　l化学蚀刻：等离子蚀刻

　　l物理化学复合蚀刻：反应离子蚀刻(RIE)

                                                

　　干蚀刻是一种各向异性蚀刻，具备良好的方向性，但可选择性比湿蚀刻差。在等离子体蚀刻中，等离子体是一种部分离解的气体，气体分子被离解成电子、离子和其他具有较高的化学活性的物质。干蚀刻最大的优点是“各向异性蚀刻”。然而，(自由基)干蚀刻的选择性低于湿蚀刻。这是因为干蚀刻的蚀刻机理是物理相互作用;因此，离子的冲击不仅仅可以去除蚀刻膜，还可以去除光刻胶掩模。

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